Япония при поддержке США хочет создать производственную базу для локального выпуска полупроводниковых микросхем на базе 2-нм технологического процесса к 2025 году. Об этом сообщило издание Nikkei.

Издание добавляет, что обе страны являются родиной технологических гигантов, которые уже занимаются вопросами исследования передовых технологических процессов. В качестве примера приводится американская IBM, которая показала прототип 2-нм чипа ещё в прошлом году, а также компания Intel, которая занимается разработкой 2-нм техпроцесса. В Японии исследованиями и разработкой технологий производства передовых полупроводников, включая те, что будут производиться по нормам 2-нм, занимается лаборатория в Цукубе под руководством Национального института передовых промышленных наук и технологий. Отмечается, что свою помощь в проекте также могут оказать японские производители оборудования для производства чипов, например, Tokyo Electron и Canon.

Помимо прочего Япония является одним из ключевых поставщиков материалов для производства чипов, пишет Nikkei. В качестве примеров приводятся компании Shin-Etsu Chemical и Sumco. В США в свою очередь есть такие компании, как Applied Materials, занимающиеся поставками оборудования для производства чипов. По мнению издания, сотрудничество между этими поставщиками оборудования и материалов сможет сделать местное производство продуктов на основе 2-нм техпроцесса доступным.